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OGF処理

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OGF処理

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OGF処理とは

OGF処理(アウトガスフリー)とは、放出ガス量の低い表面処理です。
一般のアルマイト(アノダイズ処理)は、バリア層と呼ばれる薄い緻密な酸化膜の上に多孔質皮膜と呼ばれるポーラス構造の酸化膜が柱状に成長しますが、OGF処理は無孔質表面の皮膜(バリア型皮膜)の一種です。

OGF処理 硫酸アルマイト
高耐熱性
耐電圧
耐食性
ガス放出性
一般的なアノダイズ(アルマイト)処理と、当社OGF処理との違い

SEM観察比較写真

SEM観察比較写真

特徴

高耐熱性

高温状況下でもクラックが発生しません。
プロセス温度(実績値)=480℃

高耐食性

硫酸アルマイトに比べ、極めて耐食性が良好。
20μm膜厚の硫酸・シュウ酸アルマイト(未封孔)より耐食性は良好です。

低ガス放出性

無孔質膜構造のため、ガス放出量が極めて低い。
硫酸・シュウ酸アルマイトはもちろんのこと、電解研磨よりもガス放出量が1/10と少なく、アルミ無垢の素材と同等です。

小穴・複雑形状にも適用可能。

用途

高真空装置部品

  • 次世代成膜装置 ALD(Atomic Layer Deposition)装置用部品
  • メタルCVD(Chemical Vaper Deposition)装置用部品
  • 高真空エピタキシャル成長 VCE(Vacuum Chemical Epitaxy)装置用部品

期待できる効果

  • 真空到達時間の短縮
  • プロセス時に発生するParticle/Arcing等のプロセスエラーの低減
  • 部品の長寿命化

処理サイズ

ワークサイズ:横1,200mm×高さ1,000mm×幅500mm
※吊り下げ・電極治具部分含む。=詳細は別途ご相談させていただきます。