本文へスキップします。

【全】言語ボタン

【全】検索フォーム外部

H1

精密洗浄

KV

精密洗浄

コンテンツ

精密洗浄とは

一般の洗浄は、薬品を使用する化学洗浄やブラストメディアを使用するブラスト洗浄が主流ですが、各々用途が限定され、残渣除去の為の洗浄や二次廃棄物処理に実際の洗浄より高いコストがかかる事がしばしば発生します。 化学洗浄の場合、基本的には表面をエッチングするため、穴径等が変化し、また、洗浄に使用した薬品残渣を除去する為には、多段の純水洗浄を実施する必要があります。

一方、ブラスト洗浄の場合、使用したブラストメディア除去工程以外に、表面のモフォロジーが変化し、また、平面度等の重要寸法が変化する欠点があります。

当社では、薬品残渣・メディア残渣や表面モフォロジーの変化や重要寸法の変化を嫌う超精密製品や人体に悪影響を及ぼす医療容器に対し、圧縮空気とドライアイス粒子の急冷・圧縮・気化・膨張を利用した精密洗浄を実施する事が可能です。

特徴

  • 薬品残渣やメディア残渣等の除去が不要です。
  • 表面の付着物や微細バリのみを除去する事が可能で、母材表面のモフォロジー変化や寸法変化がほとんどありません。
  • 複雑な形状に対しても適用可能です。
  • 二次廃棄物が発生しません。

用途

  • 半導体・FPD(液晶、有機EL)製造装置部品の洗浄(使用済み静電チャック・ガス拡散板等の脱膜も可能)
  • 水・薬品・ブラスト洗浄が使用できない電子機器ならびにその周辺部品の洗浄
  • 高価で複雑な金型の洗浄
  • 医療容器等の洗浄度が必要な部品の洗浄
  • 微小なルーズバリの除去・洗浄(HDD部品・半導体・液晶製造装置部品など)

適用例(半導体製造装置部品(ガス拡散板)のバリ取り・洗浄)

適用例