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アノダイズ処理 （アルミ製品のみ）

概要

半導体・液晶製造装置部品専用のアノダイズ処理設備が完備されております。 コンピュータによる自動制御と、製品毎の個別工程管理により、安定したアノダイズ処理が可能です。 また、SEM＆EDX、微小硬さ計などの専用評価設備により、アノダイズ膜の様々な解析が可能です。

特徴

お客様のニーズに応じたカスタマイズを実現致します。

• 硬質アノダイズ処理が可能です
• 鏡面加工や前加工、後加工も可能です

大型部品の化学研磨処理や精密洗浄処理に対応可能です。

• 平面部・Oリング・穴内面などのマスキング施行が可能です
• 材料手配から、機械加工、接合、アノダイズ処理まで、弊社にて一貫して対応可能です

用途

• 半導体・液晶製造装置部品

仕様

アノダイズ処理

• 材質：アルミニウム
• 処理方法：硫酸アノダイズ処理
• 処理サイズ：液晶G8サイズまで対応可能です

膜厚：5～80μm
封孔処理：蒸気加圧(φ450mm)、純水煮沸の2通り

備考

お問い合わせは下記営業部までお願い致します。